日期：10-17 作者：無錫雷士- 小 + 大
硅片的清洗在半導(dǎo)體制作過程中十分重要，而磨片的清洗是所有清洗工序中最困難的。由于使用了清洗機，通過物理滲透作用，使污染顆粒脫離硅片表面，再通過超聲波清洗的機械作用和化學腐蝕作用，最終去除污染顆粒，達到了清洗硅片的目的。
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